CG10-H-CP

CG10HCP
Qualité polisseur de condensats, résine gel de cations acides forts réticulée à 10 % sous forme d'hydrogène. Haute capacité et résistance à l’oxydation thermique et chimique. Résine de couleur foncée et de granulométrie uniforme offrant une perte de pression minimale et une séparation parfaite des résines anioniques de qualité CP. Idéal pour le polissage des condensats à haut débit et en lit profond.
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Product Description

ResinTech CG10-H-CP est une résine de gel de cations acides forts réticulée à 10 % sous forme d'hydrogène. Il offre une capacité et une résistance élevées à l’oxydation thermique et chimique. Résine de couleur foncée et de granulométrie uniforme, la CG10-H-CP produit une perte de pression minimale et une séparation parfaite des résines anioniques de qualité « CP ». Il convient parfaitement aux applications de polissage de condensats à haut débit et en lit profond lorsqu'il est associé au SBMP1-OH-CP ou au SBG1-OH-CP.

Features and Benefits

  • Taille des particules contrôlée10 % de divinylbenzène
  • Stabilité physique supérieure
  • Faible lixiviation organique

Applications

Amine Cycle Polishing
Demineralization / DI
Condensate Polishing
Mixed Bed Components

Markets

Production d'énergie, nucléaire, eau industrielle

Certifications

REACH Registered
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Physical Properties

Products
CG10-H-CP
SKU
CG10HCP
Polymer Matrix
Styrene/DVB
Ionic Form
Hydrogen (H⁺)
{"Functional Group":"Sulfonic Acid","Physical Form":"Spherical Beads","Media Color":"Dark Brown to Black","Grade":"Condensate Polishing","Particle Size Range":"16 - 35 US mesh (1190μ - 500μ)","Minimum Sphericity %":95,"Moisture Retention (%)":"46 to 52","Uniformity Coefficient":1.6,"Reversible Swelling":"4 to 8% (Na → H)","Operation pH Range":"0 to 14","Max Continuous Temp":"265°F (129°C)","Max Pressure Loss":"25 psi (172 kPa)","Capacity (meq/mL)":2,"Ship. Wt. (lbs/cu.ft.)":51,"Shipping Weight":"50 - 52 lbs/cu.ft. (801 - 833 g/L)","Regenerable":"Yes"}