Resina de intercambio iónico

Eliminación selectiva de contaminantes para aguas complicadas

Resina de intercambio iónico disponible por palé, camión o contenedor. Clasifique por aplicación o por contaminante y pida a uno de nuestros ingenieros que valide su resina sin costo alguno antes de asignar el presupuesto.
Reduzca el riesgo de suministro

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Optimice la productividad de los procesos

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Amplíe el ciclo de vida de regeneración

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Haga que su proceso sea más seguro

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Resina de intercambio iónico

ResinTech SBACR es una resina aniónica de base fuerte en gel acrílico en forma de cloruro. El polímero tiene una estructura alifática abierta que permite que los aniones orgánicos se intercambien dentro y fuera de la resina más fácilmente que las resinas aniónicas basadas en una estructura de polímero de poliestireno. SBACR está diseñado para eliminar NOM (materia orgánica natural).
SBACR
Anión de base fuerte
Cloruro (Cl⁻)
gel acrílico
Malla de 16 a 50 EE. UU.
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ResinTech SBACR-HP es una resina aniónica de base fuerte en gel acrílico en forma de cloruro. El polímero tiene una estructura alifática abierta que permite que los aniones orgánicos se intercambien dentro y fuera de la resina más fácilmente que las resinas aniónicas basadas en una estructura de polímero de poliestireno. SBACR-HP está diseñado para eliminar NOM (materia orgánica natural).
SBACRHP
Anión de base fuerte
Cloruro (Cl⁻)
gel acrílico
Malla de 16 a 50 EE. UU.
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ResinTech SBACR-MP es una resina aniónica de base fuerte macroporosa acrílica de alta pureza en forma de cloruro. Sus propiedades químicas y físicas son similares a otras resinas de la familia SBACR-MP. SBACR-MP está diseñado para eliminar NOM (materia orgánica natural) y otras aplicaciones que requieren certificación de agua potable.
SBACRMP
Anión de base fuerte
Cloruro (Cl⁻)
Acrílico Macroporoso
Malla de 16 a 50 EE. UU.
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ResinTech SBACR-MP es una resina aniónica de base fuerte macroporosa acrílica de alta pureza en forma de cloruro. Sus propiedades químicas y físicas son similares a otras resinas de la familia SBACR-MP. SBACR-MP está diseñado para eliminar NOM (materia orgánica natural) y otras aplicaciones que requieren certificación de agua potable.
SBACRMPHP
Anión de base fuerte
Cloruro (Cl⁻)
Acrílico Macroporoso
Malla de 16 a 50 EE. UU.
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ResinTech SBACR-OH es una resina aniónica de base fuerte en gel acrílico tipo 1 en forma de hidróxido. Las resinas aniónicas en forma de hidróxido acrílico tienen mejor resistencia a las incrustaciones orgánicas que cualquier otra resina base fuerte, pero son térmicamente sensibles y tienen una vida útil reducida cuando funcionan a altas temperaturas.
SBACROH
Anión de base fuerte
Hidróxido (OH⁻)
gel acrílico
Malla de 16 a 50 EE. UU.
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ResinTech SBG1 es una resina aniónica de base fuerte en gel con alto contenido de sólidos tipo 1 en forma de cloruro. Tiene una alta reticulación y una mayor capacidad de intercambio iónico que otras resinas aniónicas de base fuerte, lo que da como resultado una selectividad especialmente alta para varios aniones. SBG1 está destinado a la eliminación de contaminantes como nitrato, arseniato, cromato, uranio, etc.
SBG1
Anión de base fuerte
Cloruro (Cl⁻)
Gel estirénico
Malla de 16 a 50 EE. UU.
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ResinTech SBG1-HCO3 es una resina aniónica de base fuerte en forma de gel de bicarbonato tipo 1. SBG1-HCO3 está diseñado para usarse en aplicaciones de aniones de base fuerte en forma de sal donde una caída inicial del pH no es deseable o donde la liberación de cloruros es objetable. ResinTech SBG1-HCO3 se suministra en forma de bicarbonato.
SBG1HCO3
Anión de base fuerte
Bicarbonato (HCO₋₃)
Gel estirénico
Malla de 16 a 50 EE. UU.
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ResinTech SBG1 es una resina aniónica de base fuerte en gel tipo 1 de alta pureza en forma de cloruro. Su designación 'HP' significa que cuenta con la certificación Gold Seal de la WQA para su uso en aplicaciones de agua potable.
SBG1HP
Anión de base fuerte
Cloruro (Cl⁻)
Gel estirénico
Malla de 16 a 50 EE. UU.
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ResinTech SBG1-OH es una resina aniónica de base fuerte en gel tipo 1 con alto contenido de sólidos en forma de hidróxido. Tiene una alta reticulación y una mayor capacidad de intercambio iónico que otras resinas aniónicas de base fuerte, lo que da como resultado una selectividad especialmente alta para varios aniones.
SBG1OH
Anión de base fuerte
Hidróxido (OH⁻)
Gel estirénico
Malla de 16 a 50 EE. UU.
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Pulidor de condensado grado tipo 1, resina aniónica de base fuerte en forma de hidróxido. Alta capacidad y resistencia a la oxidación térmica y química. Optimizado para una pérdida de presión mínima. Adecuado para pulido de condensado de lecho profundo y alto caudal en plantas de energía de combustibles fósiles.
SBG1OHCP
Anión de base fuerte
Hidróxido (OH⁻)
Gel estirénico
Malla de 16 a 50 EE. UU.
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ResinTech SBG1-OH-LTOC es una resina aniónica de base fuerte en gel tipo 1 con alto contenido de sólidos en forma de hidróxido. El grado LTOC ha sido probado funcionalmente para producir una resistividad de 18 megaohmios y menos de 10 ppb de TOC (cuando se combina en un lecho mixto con resina catiónica de grado LTOC).
SBG1OHLTOC
Anión de base fuerte
Hidróxido (OH⁻)
Gel estirénico
Malla de 16 a 50 EE. UU.
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ResinTech SBG1-OH-SC es una resina aniónica de base fuerte en gel tipo 1 con alto contenido de sólidos en forma de hidróxido. El grado SC significa que ha sido probado funcionalmente para producir una resistividad de 18 megaohmios y menos de 50 ppb de TOC (cuando se combina en un lecho mixto con resina catiónica de grado SC).
SBG1OHSC
Anión de base fuerte
Hidróxido (OH⁻)
Gel estirénico
Malla de 16 a 50 EE. UU.
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Resina aniónica de base fuerte en gel tipo 1 en forma de cloruro para pulido de condensados ​​y desmineralización industrial. Cordones altamente uniformes que proporcionan una pérdida de presión mínima y una mejor eficiencia de regeneración. Recomendado para sistemas regenerados a contracorriente.
SBG1UC1
Anión de base fuerte
Cloruro (Cl⁻)
Gel estirénico
Malla de 20 a 40 EE. UU.
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ResinTech SBG1-UPS es una resina aniónica de base fuerte en gel tipo 1 de tamaño de partícula uniforme en forma de cloruro. Las perlas uniformes y el tamaño medio armónico algo más pequeño producen una pérdida de presión mínima y una mejor eficiencia de regeneración en comparación con las resinas con distribución de tamaño gaussiana.
SBG1UPS
Anión de base fuerte
Cloruro (Cl⁻)
Gel estirénico
Malla de 20 a 40 EE. UU.
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ResinTech SBG1P es una resina aniónica de base fuerte en gel poroso tipo 1 en forma de cloruro. Su mayor contenido de humedad y menor densidad de intercambio iónico dan como resultado una mejor eficiencia química y una mayor resistencia a las incrustaciones orgánicas. SBG1P está diseñado para su uso en aplicaciones industriales.
SBG1P
Anión de base fuerte
Cloruro (Cl⁻)
Poroso estirénico
Malla de 16 a 50 EE. UU.
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ResinTech SBG1-HCO3-HP es una resina aniónica de base fuerte porosa tipo 1 en forma de bicarbonato. SBG1-HCO3 está diseñado para usarse en aplicaciones de aniones de base fuerte en forma de sal donde una caída inicial del pH no es deseable o donde la liberación de cloruros es objetable. ResinTech SBG1-HCO3-HP se suministra en forma de bicarbonato.
SBG1PHCO3HP
Anión de base fuerte
Bicarbonato (HCO₋₃)
Poroso estirénico
Malla de 16 a 50 EE. UU.
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Resina de intercambio iónico

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SBG2OH
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Estireno/DVB
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Hidróxido (OH⁻)
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SKU
SBG2UPS
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Anión de base fuerte
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Cloruro (Cl⁻)
Solicitudes:
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Solicitudes
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Desalcalinizante, Reducción de Nitratos, Reducción de Sulfatos
SKU
SBG2UC1
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Anión de base fuerte
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Cloruro (Cl⁻)
Arsénico, clorato, cromato, hierro, nitrato, perclorato, selenio, sulfato, uranio
Solicitudes:
Desalcalinizante, Reducción de Nitratos, Reducción de Sulfatos
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Solicitudes
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Pulido de condensado, desmineralización / DI
SKU
SBMP1OH
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Hidróxido (OH⁻)
Dióxido de carbono, sulfato, nitrato, alcalinidad, sílice
Solicitudes:
Pulido de condensado, desmineralización / DI
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Solicitudes
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Pulido de condensado
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SBMP1OHCP
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Anión de base fuerte
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Matriz polimérica
Estireno/DVB
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Hidróxido (OH⁻)
Solicitudes:
Pulido de condensado
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Solicitudes
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Lechos Empacados, Desmineralización / DI
SKU
SBMP1UC1
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Anión de base fuerte
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Estireno/DVB
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Cloruro (Cl⁻)
Solicitudes:
Lechos Empacados, Desmineralización / DI
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SKU
SBMP1UPS
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Anión de base fuerte
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Estireno/DVB
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Cloruro (Cl⁻)
Solicitudes:
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Neutralización del ácido sacarosa
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SXA40OH
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Matriz polimérica
Estireno/DVB
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Hidróxido (OH⁻)
Solicitudes:
Neutralización del ácido sacarosa
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Solicitudes
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Azúcar, Desmineralización / DI
SKU
SXA45CL
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Anión de base fuerte
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Matriz polimérica
Estireno/DVB
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Cloruro (Cl⁻)
Bromo, Cloruro, Cloro, Cloroplatinato, Cobre, Férrico, Hierro, Molibdato, Molibdeno, Niobio, Orgánicos, Platino, Selenato, Selenio, Taninos, Tungstato, Tungsteno
Solicitudes:
Azúcar, Desmineralización / DI
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Solicitudes
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Decoloración y eliminación de cenizas del azúcar, reducción de compuestos orgánicos
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SXA60A
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Anión de base fuerte
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Matriz polimérica
Acrílico
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Cloruro (Cl⁻)
Solicitudes:
Decoloración y eliminación de cenizas del azúcar, reducción de compuestos orgánicos
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Azúcar, Desmineralización / DI
SKU
SXA70FB
Subcategoría de medios
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Matriz polimérica
Macroporoso estirénico
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Base libre (FB)
Solicitudes:
Azúcar, Desmineralización / DI
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Solicitudes
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Ablandamiento: jarabes de azúcar, decationización del azúcar
SKU
SXC10NA
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Catión ácido fuerte
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Estireno/DVB
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Sodio (Na⁺)
Solicitudes:
Ablandamiento: jarabes de azúcar, decationización del azúcar
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Solicitudes
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Inversión de sacarosa
SKU
SXC60H
Subcategoría de medios
Catión ácido fuerte
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Matriz polimérica
Macroporoso estirénico
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Forma iónica
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Hidrógeno (H⁺)
Solicitudes:
Inversión de sacarosa
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Decationización del azúcar
SKU
SXC70H
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Matriz polimérica
Acrílico
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Hidrógeno (H⁺)
Solicitudes:
Decationización del azúcar
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Solicitudes
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Ablandamiento: jarabes de azúcar, decationización del azúcar
SKU
SXC8NA
Subcategoría de medios
Catión ácido fuerte
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Matriz polimérica
Estireno/DVB
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Forma iónica
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Sodio (Na⁺)
Solicitudes:
Ablandamiento: jarabes de azúcar, decationización del azúcar
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Solicitudes
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Reducción de metales pesados, ablandamiento con alto contenido de TDS
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WACMPNa
Subcategoría de medios
Catión ácido débil
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Matriz polimérica
Acrílico/DVB
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Sodio (Na⁺)
Calcio, Magnesio, Hierro, Plomo, Metales Pesados
Solicitudes:
Reducción de metales pesados, ablandamiento con alto contenido de TDS
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